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一种新型的掩膜管理控制系统的研制
谭民; 刘云; 徐德; 汪建华; 王秀青; 赵晓光
Source Publication高技术通讯
ISSN1002-0470
2007
Volume017Issue:001Pages:32
Abstract研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统。系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、PIE控制器和伺服驱动器等构成;系统软件由基于VC的上层管理程序以及基于梯形图的底层流程控制程序构成,其中上掩膜版和卸掩膜版是流程控制的主要组成部分。介绍了四象限光电探测器的对准工作原理和掩膜版的粗、精细预对准方法,实验测试了上、卸掩膜版的节拍,粗、精细预对准时间和掩膜版经过精细预对准后的重复定位精度,讨论了激光器和四象限光电探测器相对位姿的标定方法,并指出了该系统的特点。实验结果表明,该系统性能稳定,主要指标能够满足掩膜光刻机的实际生产要求。
Language英语
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ia.ac.cn/handle/173211/33294
Collection中国科学院自动化研究所
Affiliation中国科学院自动化研究所
First Author AffilicationInstitute of Automation, Chinese Academy of Sciences
Recommended Citation
GB/T 7714
谭民,刘云,徐德,等. 一种新型的掩膜管理控制系统的研制[J]. 高技术通讯,2007,017(001):32.
APA 谭民,刘云,徐德,汪建华,王秀青,&赵晓光.(2007).一种新型的掩膜管理控制系统的研制.高技术通讯,017(001),32.
MLA 谭民,et al."一种新型的掩膜管理控制系统的研制".高技术通讯 017.001(2007):32.
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